三星电子与阿斯麦（ASML）宣布扩大战略合作。三星将加入推动 12 英寸光罩技术发展的行业合作计划，并计划于 2028 年前首次将阿斯麦高数值孔径（High NA）极紫外光刻（EUV）技术用于 DRAM 大规模生产。三星表示，12 英寸光罩有望提高晶圆厂生产效率、降低芯片制造成本，并减少光罩拼接限制。高 NA EUV 则有望延长 DRAM 制程微缩路线，通过更高分辨率简化工艺并提升生产效率。三星还将与行业合作伙伴共同开发 12 英寸光罩技术及配套基础设施。（界面）