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晶合集成申请半导体版图相关专利,半导体版图光刻胶设计可减少刻蚀残留物
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来源:新浪证券 - 红岸工作室

6 月 13 日消息,国家知识产权局信息显示,合肥晶合集成电路股份有限公司申请一项名为 " 半导体版图结构及双栅氧化层制备方法 " 的专利。申请公布号为 CN122205953A,申请号为 CN202610663071.2,申请公布日期为 2026 年 6 月 12 日,申请日期为 2026 年 5 月 14 日,发明人徐锐、宋聪强,专利代理机构华进联合专利商标代理有限公司,专利代理师杨明莉,分类号 H10D89/10、H10P76/20、H10D64/01。

专利摘要显示,本公开涉及半导体制造技术领域,具体涉及一种半导体版图结构及双栅氧化层制备方法,其中,第一光刻胶图形沿第一方向延伸,沿第一方向的尺寸为 L1,沿第二方向的尺寸为 W1;第二光刻胶图形沿第二方向延伸,沿第一方向的尺寸为 W2,沿第二方向的尺寸为 L2;在第一光刻胶图形与第二光刻胶图形相交的情况下,W1、W2 均小于第一目标值,L1、L2 均小于第二目标值;在 W1、W2 中至少一个大于等于第一目标值,或 L1、L2 中至少一个大于等于第二目标值的情况下,第一光刻胶图形与第二光刻胶图形的间距大于目标间距值,目标间距值关联于第二目标值与第一目标值的比值。至少能够有效减少基于光刻胶刻蚀过程中的残留物,避免产生因残留物损伤衬底。

晶合集成成立于 2015 年 5 月 19 日,于 2023 年 5 月 5 日在上海证券交易所上市,注册地址和办公地址均涉及安徽省合肥市。该公司是国内领先的 12 英寸晶圆代工企业,具备先进工艺研发与应用能力,投资价值凸显。

晶合集成主要从事 12 英寸晶圆代工业务,专注于研发并应用先进工艺,为客户提供多制程节点、不同工艺平台的晶圆代工服务。公司所属申万行业为电子 - 半导体 - 集成电路制造,涉及 MCU 概念、MR 头显、MiniLED 等概念板块。

2025 年,晶合集成营业收入为 108.85 亿元,行业排名 4/7,行业第一名中芯国际为 673.23 亿元,第二名华虹宏力为 172.91 亿元,行业平均数为 166.12 亿元,中位数为 108.85 亿元。其主营业务构成中,集成电路晶圆制造代工收入 103.57 亿元,占比 95.14%。净利润方面,2025 年为 4.66 亿元,行业排名 4/7,行业第一名中芯国际为 72.09 亿元,第二名赛微电子为 13.88 亿元,行业平均数为 9.67 亿元,中位数为 4.66 亿元。

合肥晶合集成电路股份有限公司近期专利情况如下:

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