钛媒体快报 02-25
消息称三星电子1c DRAM良率超80%,HBM4良率接近60%
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钛媒体 App 2 月 25 日消息,据报道,业内人士透露,三星电子内部已实现 1c DRAM 80% 的良率,这是在高温环境下(热测试)取得的最高良率,2025 年第四季度其良率约为 60-70%,如今已显著提升,并有望在 5 月份左右达到 90%。业内人士进一步表示,三星基于 1c DRAM 的 HBM4 的良率也有所提高,已接近 60%,去年第四季度约为 50%。(广角观察)

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