钛媒体 App 12 月 15 日消息，阿斯麦（ASML）首席执行官克里斯托夫 · 富凯表示，公司为 High-NA EUV（高数值孔径极紫外光刻机）所设计的光刻改进方案已得到验证，成像效果极佳，分辨率非常出色。目前公司正与客户合作，以全面完善该光刻系统的成熟度。报道称，阿斯麦将与客户密切配合，确保 High-NA EUV 在明年内实现停机时间降至最低的稳定运行。富凯预计，High-NA EUV 将在 2027 至 2028 年间实现大规模量产。（广角观察）