证券之星消息，根据天眼查 APP 数据显示中微公司（688012）新获得一项发明专利授权，专利名为 " 半导体结构的处理方法、半导体结构及半导体处理装置 "，专利申请号为 CN202311028137.3，授权日为 2025 年 11 月 11 日。

专利摘要：本发明公开了一种半导体结构的处理方法、半导体结构及半导体处理装置。处理方法包括：提供一基片，包括设置在衬底上的基底层，其具有侧部自顶部表面朝向衬底方向逐渐向外延伸形成的坡度结构，坡度结构上覆盖有截止层，截止层上设有电介质层；开启源射频、偏置射频，通入第一刻蚀气体，刻蚀电介质层，直到第三类孔暴露出截止层；降低偏置射频的功率，使第一类孔、第二类孔和第三类孔的开口发生侧向刻蚀；通入第二刻蚀气体，对第三类孔暴露的截止层进行刻蚀，第二刻蚀气体的流量随刻蚀时间以斜率 k 线性提高，直到将第三类孔的截止层刻蚀到预设深度。本发明通过对不同深度不同深宽比的通孔中截止层余量地控制，扩大了后续打击截止层制程的工艺窗口。

今年以来中微公司新获得专利授权 149 个，较去年同期增加了 49%。结合公司 2025 年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了 11.16 亿元，同比增 96.65%。

通过天眼查大数据分析，中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了 30 家企业，参与招投标项目 68 次；财产线索方面有商标信息 99 条，专利信息 1603 条，著作权信息 13 条；此外企业还拥有行政许可 77 个。

数据来源：天眼查 APP

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