快科技 9 月 25 日消息，据报道，Intel 正在加码采购 ASML 的 High-NA EUV 光刻机，计划购买两台相关设备，这一数量较之前计划的单台设备翻了一番。

ASML 的 High-NA EUV 光刻机不仅价格高昂，更能够实现更高的分辨率和更精细的芯片制造关键，是未来高端芯片制造的关键。

目前，全球仅有少数几家公司能够获得 ASML 的 High-NA EUV 设备，包括台积电、三星、SK 海力士和 Intel。

Intel 的 14A 工艺计划引入高数值孔径（High-NA）光刻技术，这将是 Intel 代工服务（IFS）部门的重大里程碑。

14A 工艺的成功与否对 Intel 的未来发展至关重要，因为如果该工艺无法获得客户的广泛采用，Intel 可能会放弃对高端芯片制造节点的追求。因此，14A 工艺可以说是 Intel 在高端芯片制造领域的 " 背水一战 "。

据估算，ASML 的单台 High-NA EUV 光刻机价格约为 3.7 亿美元，意味着 Intel 仅在光刻设备上就可能花费 10 亿至 20 亿美元。