【太平洋科技快讯】近日，据相关消息透露称，苹果正筹备 iPhone 诞生 20 周年纪念版，计划于 2027 年推出。这款纪念版 iPhone 将迎来重大设计革新，通过 " 四边弯曲 " 显示技术实现四曲面真全面屏设计。与目前市面上的曲面屏手机不同，该技术将使屏幕在左右两侧以及顶部和底部边缘均实现弯曲，从而实现真正的无边框视觉体验。

为了实现真正的全面屏，苹果计划将前置摄像头和 Face ID 传感器隐藏于屏幕下方。这一技术已经在部分安卓手机上得到应用，而苹果也一直在研发其自家的屏下摄像头方案。据悉，苹果的韩国供应商 LG Innotek 正在开发一种名为 " 自由曲面光学 " 的多镜头阵列技术，旨在减少图像失真并提高亮度，以弥补摄像头位于显示屏下方时通常会出现的光损失。

除了四曲面屏，纪念版 iPhone 还可能采用几乎全玻璃的机身设计，进一步提升外观的简洁性和现代感。在内部硬件方面，苹果计划使用 16nm FinFET 工艺技术的 OLED 显示驱动芯片，替代目前 28nm 平面工艺。

为了满足用户对更长续航时间的需求，纪念版 iPhone 可能会采用纯硅电池，而非传统的石墨基电池。纯硅电池的能量密度更高，有望显著提升设备的续航能力。

四曲面真全面屏设计虽然令人期待，但也带来了新的技术挑战。由于屏幕在所有侧面弯曲，可能会引入新的应力点，从而更容易在跌落时受损。苹果需要开发新的材料和结构设计来增强设备的耐用性。此外，无边框设计可能导致误触问题，苹果需要开发新的防误触算法来优化用户体验。