证券之星 05-14
康达新材:氧化铝靶材可应用于集成电路制造领域用于沉积绝缘层和介电层
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证券之星消息,康达新材 ( 002669 ) 05 月 13 日在投资者关系平台上答复投资者关心的问题。

投资者:请问公司研发的氧化铝靶材、CMP(氧化铈)抛光液材料主要用于哪一方面?市场开拓怎么样?谢谢

康达新材董秘:尊敬的投资者朋友,您好!(1)氧化铝靶材可应用于集成电路(IC)制造领域,用于沉积绝缘层和介电层,隔离电路防止干扰,减少电流泄漏,提升产品的可靠性和耐久性。目前控股子公司惟新科技的氧化铝靶材已完成了小批次验证,未来将根据客户订单需求供货;(2)CMP 抛光液是应用于半导体制造过程中的化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing,简称 CMP)工艺的材料,目前公司正在开展产品的内部测试工作。感谢您的关注,谢谢。

以上内容为证券之星据公开信息整理,由 AI 算法生成(网信算备 310104345710301240019 号),不构成投资建议。

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