驱动之家 09-12
三星2nm良率持续存在问题、量产一拖再拖!决定从得州晶圆厂撤出人员
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快科技 9 月 12 日消息,据媒体报道,三星的 2 纳米工艺技术持续存在良率问题,量产时间一再推迟,目前量产时间表已从 2024 年底推迟到 2026 年。

为此,三星决定从美国得州泰勒工厂撤出人员,只留下最低限度的员工。

泰勒工厂原本被设计为 4 纳米及以下先进工艺的量产中心,但由于 2nm 良率始终低于 50%,特别是与竞争对手台积电 60%~70% 的良率相比,三星的量产能力受到了严重质疑。

还有业内人士评论称,三星的全环绕栅极(GAA)工艺良率仅在 10%-20% 之间,这使得其既不足以接单也不足以实现量产。

三星董事长李在镕近期亲自拜访了 ASML 和蔡司等主要设备供应商,寻求工艺和良率改进的解决方案,但目前尚未取得显著成果。

一位半导体教授指出,三星内部的官僚主义、决策缓慢和薪酬问题可能是导致其晶圆代工竞争力下降的主要原因。

此外,与 20-30 年前相比,投资时机的延迟也反映了管理层对当前市场现实的认识不足。

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