快科技 1 月 12 日消息，虽然日本在 EUV 光刻机上落后了 ASML 公司，但在 EUV 技术上依然有很强的地位，包括 EUV 光刻胶、EUV 光罩等核心材料。

三星目前的 EUV 光罩也几乎是 100% 依赖日本进口产品，主要来自 Hoya 豪雅及 AGC（原来的旭硝子）公司，这些老牌光学、玻璃产品公司也是全球 EUV 光罩的重要供应商。

但是日本在 2019 年对韩国祭出了三大半导体核心材料的出口管制，导致韩国公司开始大力推进自研半导体技术替代进口，现在 EUV 光罩上也取得了突破。

过去几年三星一直在跟韩国的 S&S 科技合作 EUV 光罩，日前的消息称已经取得了突破，双方的验证到了最后阶段，预计 Q2 季度开始供货。

考虑到 EUV 光刻机及工艺复杂而且昂贵，三星也不可能一下子全部用国产 EUV 光罩替换，而是会少量替代，然后逐渐推广扩大。

不出意外的话，SK 海力士也同样会扩大对韩国国产的 EUV 光罩等产品的采纳与应用。

不过这么多年过去了，韩国在日本 EUV 材料替代上其实并不能说有多完美，6 年前就说替代日本的 EUV 光刻胶，目前日本公司在这个领域还是第一的，韩国也没多少公司能产 EUV 光刻胶。

这不仅是因为 EUV 相关技术研发难度大，也跟很多 EUV 材料市场空间其实没大家想象的那么大有关，EUV 光罩一年也就 3 亿美元的市场，三星顶多占个 1/3，也就 1 亿美元的用量，投入的研发经费恐怕都比这个多。

当然，上面的问题如果换做是国内市场就不一样了，国内对 EUV 及 DUV 相关的材料及设备需求是远超韩国的，替代空间大多了，而且动力也更紧迫。