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三星2nm工艺细节公布:能效提升8% 良品率不足60%
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快科技 11 月 18 日消息,据媒体报道,三星电子首次公布 2nm 工艺量产进展及技术指标:相较 3nm 制程,新工艺实现性能提升 5%、能效优化 8%、芯片面积缩减 5%。

尽管提升幅度低于业界预测,但标志着 GAA(全环绕栅极)晶体管架构在更先进节点的持续演进。

据悉,三星首款采用 2nm 工艺的 SoC 为自研 Exynos 2600,传闻当前良品率介于 50%-60%。该芯片的量产效能将直接验证三星代工技术实力,尤其在高难度 10nm 以下制程中,良品率突破已成为争夺客户的核心竞争力。

目前,全球晶圆代工市场主要由台积电占据,市场份额 70.2% 额稳居第一。虽然三星排在第二,但是市场占有率仅为 7.3%,相差了接近十倍。

三星已经为晶圆代工业务设定新目标,希望通过提高 2nm 工艺的良品率以及与利润丰厚的客户建立长期业务关系,在两年内实现盈利,并占据 20% 的市场份额。

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